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石墨舟狀態對鍍膜均勻性的影響

發布時間:2020-08-09 點擊次數:3413

將新石墨舟及使用超過3 年的舊石墨舟飽和后進行PECVD鍍膜,片間均勻性差異如圖7 所示。由圖7 可知,新石墨舟表面平整度好,石墨舟片導電性一致,薄膜分子可以均勻地沉積在硅片表面,片間均勻性更優。圖8 為新石墨舟在使用周期內的片間均勻性變化趨勢圖。

新舊石墨舟鍍膜后的片間均勻性對比

新石墨舟使用周期內片間均勻性變化



   新石墨舟飽和后在沉積時仍有部分等離子體在石墨舟片上沉積,運行次數小于30 次時,隨著運行次數的增加,石墨舟片上沉積的等離子體減少,片間均勻性越佳。運行次數大于30 次后,隨著使用次數的增加,石墨舟片內壁與硅片接觸邊緣處薄膜變厚,電場反而變強,發生更多的等離子沉積,易出現不同程度的邊緣發白現象,導致片間均勻性逐次變差。

PECVD真空鍍膜載具用石墨舟

石金科技生產的PECVD石墨舟作為鍍膜最常用的工藝,被廣泛用于半導體、太陽能電池片的生產過程中。作為硅片的載體,石墨是最理想的材料,對表面鍍膜的均勻性、色差等產生至關重要的作用,要求其有高純度、耐腐蝕、極好的抗彎強度和良好的導電性能。



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